《红外焦平面阵列成像及其非均匀性校正技术》

书名：《红外焦平面阵列成像及其非均匀性校正技术》

ISBN：9787030436177

出版地：北京

出版时间：2015.3

出版价格：70元

全书共7章，第1章绪论，主要阐述红外线的发现、红外热成像技术的国内外发展现状和红外焦平面阵列非均匀性校正的意义。第2章为红外辐射理论，主要介绍红外辐射的普遍性、红外辐射源的概念及红外辐射的基本定律。第3章为红外焦平面阵列工作原理及其成像系统的设计，主要介绍红外焦平面阵列的工作原理、红外成像系统的构成，并给出红外成像系统的具体设计。第4章为红外焦平面阵列非均匀性校正技术，主要介绍红外焦平面阵列非均匀性定义、非均匀性校正方法分类、定标类校正方法和场景类校正方法的实现过程。