《直流磁控溅射纳米晶Fe-N薄膜的研究》

书名：《直流磁控溅射纳米晶Fe-N薄膜的研究》

CIP：2020036861

作者：王丽丽, 著

出版地：长春

出版时间：2020.3

出版价格：30.0元

本书研究采用直流磁控溅射方法分别制备γFe4N和ε-Fe3N单相纳米晶薄膜。利用X射线衍射 (XRD)、原子力显微镜(AFM)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、超导量子干涉仪（SQUIDS）和振动样品磁强计（VSM）等测试手段详细分析了衬底温度、衬底材料、溅射时间、衬底偏压和退火温度等实验参数对Fe-N薄膜的结构、形貌及磁性的影响，找到了获得高质量的ε-Fe3N和γ-Fe4N纳米晶薄膜的最佳合成条件。并对γFe4N纳米晶薄膜的低温磁性和热稳定性进行了研究，取得了一些有价值的研究成果。这些研究工作为γFe4N和ε-Fe3N材料的应用提供了理论和实验依据。